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北方華創Al Pad PVD成功進駐上海集成電路研發中心

日前,由北方華創自主開發的Al Pad PVD成功進駐上海集成電路研發中心。

北方華創Al Pad PVD設備主要應用于90-14nm技術節點的Bond Pad和Al Interconnect工藝,設備突破了大產能傳輸平臺、高溫靜電卡盤、先進磁控濺射源等一系列關鍵技術,解決了厚鋁粘片、晶須缺陷等世界性技術難題??蛻舯榧癓ogic、DRAM、Nor flash、3D NAND、FPD等領域,并且已成為多家集成電路制造企業的Baseline設備。Al Pad PVD設備良好的用戶口碑和客戶端穩定量產的卓越表現,為其贏得了國內外知名廠商的肯定和好評。同時,該設備也憑借優異的機臺表現和廣泛的市場認可榮獲了首屆集成電路產業聯盟創新獎。

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